Modalidad | |
---|---|
Representada | |
Productos por Industria | Agricultura, Alimentos y Bebidas, Energía y Biocombustibles, Industria en General, Investigación y Desarrollo, Minería y Siderurgia, Petróleo y Gas, Química y Petroquímica |
Genius IF
Espectrómetro EDXRF de Banco con Objetivos Secundarios
El espectrómetro EDXRF Genius IF (Objetivos Secundarios) de Xenemetrix ofrece una solución rentable en el mercado actual de análisis elemental.
El analizador proporciona una determinación cualitativa y cuantitativa no destructiva desde Carbono(6) hasta Fermio(100), con límites de detección que van desde sub-ppm hasta altas concentraciones en peso.
El Genius IF cuenta con componentes potentes, incluyendo:
Un sistema informático totalmente integrado.
Un detector de desplazamiento de silicio de alta resolución.
Un tubo de rayos X potente con tamaños de punto variables, diseñado para acomodar muestras de diversos tamaños.
Ocho objetivos secundarios y ocho filtros de tubo personalizables para una determinación rápida y precisa de elementos traza y menores.
El Genius IF también puede operar en el modo clásico de excitación directa.
Detector de Desplazamiento de Silicio (SDD):
El Detector de Desplazamiento de Silicio permite tasas de conteo altas, mejor resolución, hasta 125 eV y tiempos de respuesta rápidos, con el fin de minimizar el tiempo de inactividad operativo.
SDD LE-Ultra: Ventana del detector ultrafina que proporciona un rendimiento superior para el análisis de elementos de bajo Z.
Objetivos Secundarios:
El Genius IF tiene una geometría patentada única que combina ocho objetivos secundarios, con ocho filtros de tubo personalizables utilizados en el modo de excitación directa, para permitir una excitación óptima de todos los elementos que pueden ser detectados en EDXRF.
La técnica de objetivo secundario con WAG (Wide Angle Geometry) patentada proporciona los mejores resultados para el análisis de elementos principales, menores y traza.
El tubo de rayos X excita las líneas K características de un objetivo secundario (un metal puro) que se utilizan para excitar la muestra de manera «monocromática».
Al usar objetivos secundarios, los límites de detección para ciertos elementos pueden reducirse aún más.
Estos límites de detección más bajos hacen que el Genius IF sea adecuado para un rango más amplio de aplicaciones que anteriormente no estaban accesibles a los instrumentos convencionales de ED-XRF, convirtiendo este instrumento en el analizador elemental más versátil disponible.
Análisis elemental no destructivo C(6) – Fm(100) desde concentraciones sub-ppm hasta el 100%.
Geometría patentada única que combina ocho objetivos secundarios y hasta ocho filtros personalizables para una determinación rápida y precisa de elementos traza y menores.
El Detector de Desplazamiento de Silicio (SDD) permite aplicaciones con tasas de conteo extremadamente altas con una excelente resolución energética, hasta 125 eV, adecuado para elementos de alto y bajo Z & ventana de polímero delgada LE para un análisis mejorado de elementos ligeros.
Bandeja de muestras con 8/16 posiciones.
Paquete de software analítico potente.
Aplicaciones Clave:
Petroquímica, Polímeros, Metalurgia, Aleaciones, Medioambiental, Aceite, Combustibles, Diésel y Líquidos, Minería y Geología, Forense, Autenticación y Metales Preciosos, Farmacéutico y Biomédico.